硝酸铈铵 (CAN) 是半导体、光学与显示行业中用于精密蚀刻 / 去除金属铬（Cr）的标准、高效、高选择性氧化剂。

一、核心原理（氧化还原）

• 硝酸铈铵 (CAN)：化学式 (NH₄)₂Ce(NO₃)₆，其中 Ce⁴⁺ 是强氧化剂。

• 除铬反应：3Ce4++Cr→3Ce3++Cr3+Ce⁴⁺ 将金属铬（Cr）氧化为可溶性的 Cr³⁺（硝酸铬），自身被还原为 Ce³⁺，铬层随之溶解。

二、精密除铬（蚀刻）标准配方

适用于光掩膜、LCD、光学玻璃、金属薄膜等微米 / 纳米级精密除铬：

• 硝酸铈铵 (CAN)：10–20 wt%（主氧化剂）

• 高氯酸 (HClO₄)：1–3 wt%（稳定剂、加速剂、提亮）

• 去离子水：余量

• 温度：25–35°C（恒温控制）

• 蚀刻速率：50–150 nm/min（可控）

三、工艺要点（精密控制）

1. 浓度控制

• CAN 浓度↑ → 速率↑

• 酸（HClO₄）↑ → 速率稳定、表面光亮、防止返黑

2. 温度控制

• 温度每↑5–10°C，速率指数上升

• 精密除铬必须恒温

3. 搅拌 / 循环

• 必须搅拌，否则局部反应不均、表面发黑

4. 后处理（关键）

• 蚀刻后 立即纯水冲洗 → 稀酸轻漂 → 超纯水冲洗 → 烘干

• 不及时水洗会返黑、残留、腐蚀不均

四、优势（精密场景）

• 高选择性：对铬蚀刻快，基本不腐蚀光刻胶、SiO₂、氮化硅；对金、铂、钯基本不蚀。

• 高精度：边缘垂直、低侧蚀、无钻蚀，适合微米 / 纳米图形。

• 表面质量：蚀刻后表面光亮、无残留、无麻点。

• 兼容性好：与半导体、LCD、光学玻璃工艺兼容。

五、应用领域

• 半导体光掩膜：铬膜图形精密蚀刻

• LCD / 显示面板：铬电极、金属膜除铬

• 光学玻璃 / 镀膜：铬层精密去除、修复

• 金属精密加工：铬、铬镍合金选择性蚀刻

六、安全与注意

• 强氧化剂：远离有机物、还原剂、易燃物。

• 酸性腐蚀：含高氯酸，防腐蚀、防喷溅。

• 废液：含 Ce³⁺、Cr³⁺，分类回收、环保处理。