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创纪录:氧化锌晶体薄片压电性相当于大块材料8倍水平
2021年01月25日 发布 分类:技术前沿 点击量:1487
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Materials Today(今日材料)上发布的最新研究成果显示,由铺在二氧化硅衬底上,仅为一纳米厚的氧化锌ZnO)薄层晶体,创下压电性相当于大块材料8倍水平的记录。https://doi.org/10.1016/j.mattod.2020.11.016

压电性是众多纤锌矿晶体的特征,但它们很少以层状结构生长。根据RMIT大学、新南威尔士大学和澳大利亚迪肯大学的研究人员的研究,这种效应可以在薄层氧化锌中得到增强,而到目前为止,这种氧化锌还很难生产出来。

氧化锌

SiO2上均匀生长的大面积ZnO超薄片

领导这项工作的新南威尔士大学的Kourosh Kalantar Zadeh说:“我们研究液态金属和利用液态金属工艺合成原子薄晶体已经有一段时间了。”。当氧化锌熔化时(在420℃左右),一层很薄的氧化层自然形成在顶部。表面氧化层没有紧密地粘附在液态金属上,因此它可以很容易地转移到另一种基底上,如SiO2。他们用密度泛函理论(DFT)模拟了SiO2衬底上的超薄氧化锌层,结果表明,厚度的减小会提高压电活性,在1.1nm的氧化锌层中,测量的压电水平达到大块材料的8倍。但研究人员也表明,除了层厚之外,还有其他因素在起作用,即层与基底的相互作用。

研究人员指出,这种生产非常薄的高度结晶的氧化锌层的新方法不仅简单,而且可以生产大面积高度可控的厚度。这种简单的方法也可以很容易地应用于其他材料。


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