烧结是粉末冶金、陶瓷、耐火、超高温材料等生产的重要工序，其作用简单说即利用热能使粉末坯体致密化。不同应用考量机械性能、导热率、密度、耐腐蚀性等侧重点不同，所以往往不同材料甚至相同材料也需要采用不同的烧结工艺和热工设备。

陶瓷烧结基本过程示意图

株洲和创中高频设备有限公司（株洲和创）作为特种陶瓷烧结炉和非标订制热工装备供应商，针对不同应用和不同工艺，开发出包括：真空烧结炉、陶瓷雾化芯烧结炉、碳化硅反应烧结炉、碳化硅无压烧结炉、重结晶烧结炉、碳化硼无压烧结炉、碳化硼热压烧结炉等。下文分享一些特陶行业案例，希望能为相关从业人员提供参考。

一、碳化硅烧结

制备高密度SiC陶瓷的方法主要有无压烧结和反应烧结。无压烧结工艺可以制备出复杂形状和大尺寸的SiC部件，因此被认为是SiC陶瓷的最有的前途的烧结方法；反应烧结工艺同样可以制备出复杂形状的SiC部件，虽然密度和高温性能略低，但大大降低了烧结温度。

1、无压烧结

碳化硅无压烧结温度通常在2100℃以上，在真空和气氛环境保护下进行脱脂烧结。碳化硅烧结炉具有温度均匀性好、测温准确性和稳定性好，所以烧制出来的产品具有产品尺寸一致性好，产品密度一致性好，每炉出来的产品尺寸一致性好。

碳化硅烧结炉--实验炉型（300*300*400）

碳化硅烧结炉--生产炉型（600*600*1500）

该设备长期稳定使用温度高达2350℃；高温状态下温度均匀性好，适用于对收缩尺寸、产品密度要求高的高性能陶瓷烧结；脱胶烧结一体成型，缩短了产品的生产周期，设备配备了带自动清理功能的螺杆泵机组或油环泵机组。

无压烧结碳化硅制品

无压烧结适用于生产防弹陶瓷、碳化硅轴套、碳化硅密封环、碳化硅换热管、碳化硅棍棒、碳化硅窑具等。

2、反应烧结

反应烧结碳化硅工艺是由细颗粒α-SiC和添加剂压制成素坯，在高温下与液态硅接触，坯体中的碳与渗入的Si反应，生成β-SiC，并与α-SiC相结合，游离硅填充了气孔，从而得到高致密性的陶瓷材料。其可以在中等浓度的酸或碱介质中使用。

一拖二碳化硅反应烧结炉（700*700*5500）

碳化硅反应烧结炉（700*700*4500）

该设备自动化程度高，可实现一键置换（炉内抽真空，冲氩气过程），运行过程中全程水电气自动监控，触摸屏仿真随时可观察设备运行状态，设备报警指示，升温曲线，开关机操作都可在触摸屏上查看和操作；炉体抗腐蚀、密闭性能和好保温性能好，经久耐用；设备可选配中频电源专用循环水冷却系统，以及保护气体纯化装置——有效的降低和杜绝因为冷却水水质问题引起的设备故障，让炉内保温材料延长使用寿命。

反应烧结碳化硅产品

反应烧结适用于生产碳化硅棍棒、碳化硅窑具、碳化硅耐磨材料、碳化硅异形件等的生产。

二、真空烧结

真空烧结是一种高温、无氧或低气压条件下进行的烧结工艺，它可以避免材料受到氧化或其他化学反应的影响，同时可以使材料的微观结构和性能得到更好的控制和调控。

真空烧结炉（600*600*2000）

真空烧结炉（1500*1500*4500）

生产型设备长期稳定使用温度高达2500℃，高温状态下温度均匀性好。实验型更是达到2600℃，而且可控温度区间大，可实验1炉多用的目的。

高性能陶瓷制品

真空烧结炉适用于精密陶瓷无真空烧结、磁性材料真空烧结、电子烟陶瓷雾化芯烧结、高性能半导体陶瓷烧结、硬质合金脱胶烧结、高性能陶瓷基板烧结、对收缩尺寸成品密度一致性要求高的精密陶瓷烧结、碳素材料的脱胶烧结、或其他金属材料和非金属材料的高温真空烧结。

株洲和创中高频设备有限公司（株洲和创）

株洲和创是一家以半导体变流技术为依托，集研发、生产、服务为一体的高科技公司，其定制非标各种烧结炉参数范围广，适用范围大。（温度区间可选择：800℃-3000℃/加热方式可选：电阻加热or中频感应加热/真空范围可选择：101kpa--1*10-4pa/装料区间订制：12L--8000L）

粉体圈

本文为粉体圈原创作品，未经许可，不得转载，也不得歪曲、篡改或复制本文内容，否则本公司将依法追究法律责任。