主要针对铬膜、镍铬合金蚀刻，是光掩膜版、TFT-LCD/OLED铬遮光层的经典湿法蚀刻体系:

1.蚀刻选择性优异

对金属铭氧化溶解能力强，几乎不腐蚀石英、光学玻璃、SiO。基底;大部分光刻胶耐受该药液，图形加工时基底与胶层不易受损，适合玻

璃基板精密图形化。

2.无氯离子体系

配方不含CF，避免氯离子造成的基材点蚀、器件漏电、金属残留缺陷，满足显示面板、光掩模的制程洁净要求，不会产生氯气安全隐

患。

3.图形质量好、侧蚀小

CAN-高氯酸体系侧壁垂直度高，侧蚀量可控，可实现微米乃至亚微米精细图案，加工出的铬线条边缘整齐，适合高精度遮光掩膜。

4.蚀刻速率稳定可控

在合适温度区间(28-32°C)蚀刻速率平稳，可通过温度、药剂浓度调节蚀刻速度;工艺窗口较宽，小幅度浓度波动不会直接造成报废。

5.废液中铈可回收利用失效药液中Ce3*可以氧化再生为Ce4，重新制备硝酸铺铵蚀刻液，稀土铺资源可循环，降低物料成本。

6.适用基材范围广

适配石英、各类光学玻璃、硅片基底;除金属铬外，也可蚀刻Ni-Cr合金、薄铜膜，同一药液可应对多种薄膜材料。

7.相比重铬酸盐蚀刻，毒性更低

不使用六价铭作为主氧化剂，减少六价铬高危物料使用;废液总铬依然存在，仍属于危废，但作业环境风险优于重铭酸铵体系。

8.工艺兼容性好

适配浸泡鼓泡蚀刻，也可喷淋工艺;药液为酸性水溶液，后处理只需超纯水充分冲洗即可，无难去除残留。

‌硝酸铈铵‌是一种‌橙红色结晶粉末‌，化学式为‌(NH₄)₂Ce(NO₃)₆‌，CAS 号为‌16774-21-3‌