在耐氟等离子体腐蚀显著优势: 抗腐蚀能力强,设备维护周期大幅度延长; YF₃涂层拥有优异的耐等离子体腐蚀性能,为工艺条件的探索与优化提供了更大的自由度和容错空间。
工艺稳定性:保证长时间制程参数不漂移,良率稳定。YF₃涂层表面化学性质稳定,可确保数千批次晶圆加工的蚀刻速率与均匀性高度一致,大幅减少产线调试时间。
颗粒污染控:在于表面致密不剥落,大幅降低晶圆缺陷。致密的YF₃涂层结构在等离子体轰击下不易脱落,从源头降低晶圆缺陷率,是制造高价值先进芯片的关键保障。
表面疏水性:腔体清洁更高效,减少停机维护时间。涂层表面致密疏水,不易吸附工艺副产物。清洁更彻底,显著减少化学品消耗与人工清洁工时。
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