硝酸铈铵蚀刻铬膜 主流应用领域

一、光电显示行业（核心主力）

1.     LCD 液晶掩模版

液晶面板阵列、彩膜基板铬掩膜蚀刻，制作精细像素线路

2.     OLED 有机屏掩膜

高精度铬遮光膜蚀刻，适配柔性屏、微屏精细图案

3.     触控屏光罩

电容屏线路曝光铬版蚀刻

二、半导体光刻领域

1.     半导体光刻铬版

芯片制程用光掩模版，亚微米级精密铬层图形蚀刻

2.     晶圆辅助遮光掩膜

芯片曝光、离子注入专用铬遮光板

3.     MEMS 微机电掩膜

微型传感器、微流控芯片精密图形制作

三、光学精密元件

1.     光学镀膜掩膜

滤光片、分光镜、增透膜镀膜用铬遮光模板

2.     激光器件光罩

激光测距、激光模组定位遮光铬板

3.     摄影 / 摄像光学狭缝掩膜

四、PCB 与精密电子

1.     精细线路菲林铬版

高端 PCB、FPC 柔性线路板曝光母版

2.     精密电阻镍铬薄膜蚀刻

贴片电阻、传感器电阻层加工

3.     微型电路遮光定位板

五、科研与高端制造

1.     实验室微纳加工掩膜

高校、科研院所微纳图案制版

2.     安防摄像镜头遮光铬片

车载摄像头、监控镜头内部遮光镀膜蚀刻

3.     光刻机配套专用铬掩模版

六、其他细分领域

·        生物芯片、微阵列芯片制版

·        光伏电池图形化遮光掩膜

·        印刷线路精密网版母版

核心特点适配所有领域

侧蚀小、精度高、不伤玻璃 / 石英基底、不伤光刻胶，是高精度湿法蚀刻铬膜首选药剂。