玻璃基板除铬

玻璃基板精密蚀刻（光掩模 / LCD）

1. 铬膜蚀刻（石英 / 玻璃上）

• 用途：光掩模铬层、LCD 铬栅极、触控铬线路、玻璃基板除铬。

• 核心：只蚀铬，不蚀玻璃 / 石英 / 光刻胶，选择性极强。

• 配方：10–20% CAN + 1–3% 高氯酸 + 去离子水，25–35℃。

• 效果：侧蚀 < 50 nm，边缘垂直（≥88°），图形精度 ±0.1 μm。

2. 玻璃表面微蚀刻（镀膜前处理）

• 用稀 CAN 溶液（0.5–1%）轻微粗化玻璃表面（Ra 0.05–0.1 μm）。

• 提升 SiO₂、TiO₂、CeO₂镀膜附着力（0 级），防脱膜、鼓泡。

• 用途：汽车前挡、建筑节能玻璃、光学镜头增透膜。

三、玻璃镀膜（铈基功能膜）

1. 氧化铈（CeO₂）增透膜

• 用 CAN 作铈源，溶胶 - 凝胶法制备CeO₂减反射膜。

• 可见光透光率达95–98%，紫外屏蔽≥99%，硬度 5H。

• 用途：光学镜头、显示屏、太阳能电池玻璃盖板。

2. SiO₂-CeO₂复合膜

• CAN 掺杂（1–2%），提升膜层硬度、耐候性，户外长期不泛黄。

四、关键关键词（搜索 / 推广 / 标书）

玻璃脱色剂、超白玻璃澄清剂、光学玻璃紫外稳定剂、无砷环保玻璃助剂、光掩模铬蚀刻液、LCD 玻璃基板除铬、玻璃镀膜前微蚀刻、氧化铈增透膜铈源、高纯硝酸铈铵（玻璃级）