减反射膜:在光学镜片和太阳能电池上形成均匀 CeO₂薄膜,使透光率提升至 98% 以上,减少反射损失。
太阳能电池应用:减少表面反射 (从 30% 降至 5% 以下),增加光吸收,提高光电转换效率 10-15%
高折射率光学材料:用于制备望远镜、显微镜等高精密光学元件,提高成像分辨率和对比度。
集成电路抛光材料:
用于硅片和蓝宝石衬底的化学机械抛光 (CMP),利用 CeO₂的高硬度和化学活性实现超平坦化,表面粗糙度 < 1nm
在先进制程 (7nm 以下) 中作为关键材料,确保全局平坦化
半导体掩膜版蚀刻:
高纯度 CAN 溶液 (≥99.9%) 作为铬掩模蚀刻液,具有选择性高、蚀刻速率可控 (50-200nm/min)、不损伤光刻胶等优势,广泛应用于面板和芯片制造