电子级硝酸铈铵 应用于：石英 / 玻璃基板上 Cr 金属遮光膜、CrOx 铬氧化层（光掩模、TFT‑LCD、OLED 光刻铬版） 16774-21-3工业级硝酸铈铵

蚀刻原理

酸性介质中Ce4强氧化，金属Cr被氧化为可溶性铬离子，Ce还原为Ce3

2Ce4 +Cr-2Ce3+ +Cr3+

·Ce+橙红色;消耗变成Ce浅黄色，可肉眼判断药液老化

，高氯酸/硝酸提供强酸性，抑制Ce水解沉淀，稳定蚀刻速率

工业主流配方

1经典光掩模配方(CAN-高氯酸体系，最通用)

硝酸铺铵(电子级):10-20wt%(主氧化剂)

高氯酸HCIO:1-3wt%(稳定剂，抑制铬面发黑，提升速率稳定性)

超纯水:余量

可选添加:0.1-0.5wt%阳离子表面活性剂，改善基板润湿性，减少针孔缺陷(高端OLED掩膜

配完后0.2um精密过滤;强酸性pH<1;橙红色透明液体

2硝酸替代配方(部分TFT-LCD制程)

·CAN:10-20wt%

硝酸:1-5wt%

超纯水余量

电子级硝酸铈铵关键指标

普通试剂级 / 工业级不可用于 LCD/OLED，杂质会造成掩膜针孔、屏脏点、漏电缺陷：

1. 纯度≥99.5%；严控 Na、K、Fe、Cu、Pb 重金属杂质

2. 氯离子 Cl⁻极低（Cl⁻会造成金属腐蚀漏电）

3. 低颗粒，大颗粒会造成掩膜图形缺陷

4. 极易潮解，原料储存必须密封防潮