硝酸铈铵 (CAN) 蚀刻适用范围

一、可蚀刻金属 / 薄膜（核心适用）

1. 铬系（最主流，掩模行业首选）

金属铬、氧化铬、氮化铬 CrN、铬硅 CrSi 薄膜，LCD/OLED 光刻铬版、石英掩模版、光栅遮光层专用蚀刻。

2. 铜及铜合金

电解铜、压延铜、薄铜箔，高端 PCB 精细线路、FPC 软板铜线路图形化、铜镀层返修。

3. 贵金属与轻金属

银 Ag、铝 Al、镍 Ni、铟 In、锡 Sn 薄膜，镀膜元件、电极薄膜蚀刻。

4. 半导体化合物

砷化镓 GaAs、磷化铟 InP 等化合物半导体薄膜刻蚀。

二、不能蚀刻（基材保护，选择性关键）

石英、光学玻璃、SiO₂、氮化硅 Si₃N₄、钛 Ti、钨 W、光刻胶 (正胶 / 负胶)、环氧树脂、FR4 板材、陶瓷，蚀刻时基板与保护层完好无损。

三、行业应用范围

1. 光电掩模行业（最大用量）

1. 液晶、OLED、TP 触控铬版掩膜蚀刻

2. 光学光栅、分光片、遮光片镀膜图形化

3. 光刻制版、精密标尺镀膜加工

2. PCB/FPC 线路板

1. 高端精细线路、IC 载板细线蚀刻（线宽≤50μm）

2. 软板薄铜蚀刻、多余铜层退镀返修

普通粗线路多用三氯化铁，精细线才用 CAN

3. 半导体 & 微电子

1. 晶圆上铬 / 镍 / 铝电极图形蚀刻

2. MEMS 微结构、薄膜电阻修整

3. 镀膜元器件金属层开窗

4. 光学镀膜、真空镀膜

1. 玻璃 / 石英基材上金属遮光膜图案加工

2. 镀膜不良件脱铬、脱铜返工返修

5. 五金精密蚀刻

超薄金属片、精密滤网、标牌薄铬薄铜蚀刻（高精度小批量）

四、工艺适用形态

1. 湿法浸泡蚀刻：小批量试样、掩模版单片加工

2. 喷淋蚀刻：PCB 量产流水线、连续化生产

3. 局部点蚀：工件局部金属层返修

五、不适用场景

1. 厚铜 (＞50μm) 大批量粗蚀刻（成本偏高，改用氯化铜）

2. 需要蚀刻钛、钨、不锈钢工件（CAN 几乎不动这类材质）

3. 强碱环境蚀刻体系（CAN 遇碱水解失效）

中文名称:硝酸铈铵 英文名称:Cericammoniumnitrate CAS号:16774-21-3 分子式:CeH4N7O18-