硝酸铈铵（CAN）是光掩模（Chrome Photomask）铬膜蚀刻的黄金标准，在半导体、LCD/OLED、光刻制版行业被称为“铬蚀之王”。

一、核心定位

用途:石英/玻璃基板上铬(Cr)遮光层的精密湿法蚀刻。

·场景:半导体光刻掩模版、LCD/OLED铭电极、光刻铭版、光掩模返工除铬。

地位:硬面光掩模铬膜蚀刻的标准化学品。

二、蚀刻原理(高选择性)

Cr+3Ce->Cr3++3Ce3+

Ce4(强氧化剂，1.61V)在酸性条件下只氧化铬，不腐蚀基底/光刻胶:

，铬一可溶性Cr3+(硝酸铬)，完全溶解。

基底:石英、玻璃、蓝宝石、光刻胶(正/负胶)零腐蚀。

光掩模工艺全流程

1. 基板：石英玻璃（高透 UV）

2. 镀膜：溅射铬膜（50–150 nm）+ 抗反射层

3. 光刻：涂胶 → 曝光 → 显影（形成图形）

4. CAN 蚀刻：喷淋 / 浸泡 → 铬层去除 → 露出石英

5. 后处理：超纯水冲洗 → 烘干 → 检测 → 出货

五、不可替代的核心优势（对比 HCl 系、KMnO4 系）

• ✅ 极致选择性：只蚀铬，不伤石英、光刻胶、介质膜，掩模零损伤。

• ✅ 边缘垂直锐利：侧蚀极小（<50 nm）、无毛刺、无钻蚀，图形精度 ±0.1 μm。

• ✅ 均匀性好：大面积（6/8/12 寸）蚀刻均匀，片内差异 < 3%。

• ✅ 兼容性强：正胶 / 负胶通用，不与光刻胶反应，良率 > 99.5%。

• ✅ 环保易控：无氯离子、无氯气；Ce³⁺可电解再生，废液易处理，符合 RoHS。