硝酸铈铵（CAN）是光刻铬版（光掩模铬膜）专用蚀刻剂的主流核心原料，核心优势是高选择性、低侧蚀、线宽精度高、不损伤光刻胶与玻璃基板，广泛用于半导体、LCD/OLED 面板的光掩模制造。

标准蚀刻液配方（商用主流）

1. 基础配方（通用型）

• 硝酸铈铵（CAN）：10%–20%（wt）（高纯≥99.99%，半导体级）

• 硝酸（HNO₃）：1%–3%（维持 pH 1–2，防止 Ce⁴⁺水解）

• 去离子水：余量（18.2 MΩ・cm，无颗粒）

• 添加剂：0.1%–0.5%（表面活性剂 / 螯合剂，改善润湿、抑制侧蚀）

• 外观：橙色透明液体，0.2 μm精密过滤（无颗粒、无划痕）

2. 无硝酸配方（低侧蚀型，Transene 1020AC）

• CAN：15% + 高氯酸：2% + 去离子水：83%

• 特点：速率稍慢（50–80 nm/min），侧蚀极小（<5%），适合高精度线宽（≤0.5 μm）