硝酸铈铵(CAN)作为抛光剂与蚀刻剂，核心依赖其Ce“强氧化性，在精密光学与半导体加工中实现”化学软化

+机械去除”的协同效应，兼具高效与原子级精度。

一、用作抛光剂(CMP化学机械抛光)

1.核心机制(化学+机械协同)

化学作用(Ce“主导)

SiO2·nH2O、金属氧化物)，降低机械去除阻力。Ce4+ +2H20->Ce021+4H

CAN水解生成CeO2纳米颗粒(莫氏硬度6.5)，同时Ce*氧化玻璃/半导体表面，形成低硬度氧化层(如

机械作用(CeO2磨料)

纳米CeO2通过"化学剪切”优先去除表面缺陷(裂纹、凸起)，实现原子级平整(Ras0.1nm)，无划痕

无麻点。

2.典型应用场景

精密光学玻璃(镜头/棱镜/窗口片)

配方:0.5%-2%CAN+水+分散剂(PEG)+螯合剂(柠檬酸)

效果:透光率提升至92%-94%，表面粗糙度Ra<0.1nm，无散射缺陷。

 典型应用场景

• 光掩模铬层蚀刻（半导体 / 面板）配方：5%–10% CAN + 1%–3% HNO₃（pH 1–2）效果：蚀刻速率50–200 nm/min，线宽精度 **±0.1 μm**，边缘垂直度 **>85°**，无侧蚀、无钻蚀。

• ITO 电极蚀刻（LCD/OLED）精准图案化，像素边缘清晰，无残留，保障显示分辨率。

• 钛 / 铬金属薄膜蚀刻（精密光学元件）去除多余金属膜，不损伤光学涂层，适用于滤光片、反射镜制造。