遮光铬膜专用硝酸铈铵蚀刻剂（CAN）核心参数与工艺指南

产品核心定位

专为遮光铬膜（Cr/CrOx） 精密图形化设计的高选择性蚀刻剂，以硝酸铈铵（CAN, (NH₄)₂[Ce (NO₃)₆]）为核心，适配光掩模、LCD/TFT、OLED、MEMS 等高端制程，实现低侧蚀、边缘陡直、无残留的精准蚀刻。

典型配方体系

1. 光掩模 / 高端面板标准配方：CAN（10–20 wt%）+ 高氯酸（1–3 wt%，稳定体系）+ 去离子水（余量），高氯酸可提升速率稳定性。

2. LCD/TFT 制程配方：CAN（3–25 wt%）+ 硝酸（≥2.5 mol/L），适配多层铬膜结构，保证正锥形剖面。

3. OLED 专用配方：CAN（5–30 wt%）+ 硝酸（0.5–10 wt%）+ 阳离子表面活性剂，低温（＜50℃）不损伤有机层。

标准工艺流程

1. 前处理：基板清洗→光刻胶涂布→曝光显影，形成保护图形。

2. 蚀刻操作：

• 方式：喷淋蚀刻（推荐）或浸泡蚀刻。

• 条件：稳定温度（25–35℃）、持续搅拌（避免速率不均）。

• 时间：15–60 秒（依膜厚调整，Cr 膜厚 100–150 nm 时约 1–3 分钟）。

3. 后处理：去离子水快速冲洗→稀酸轻漂→纯水漂洗→烘干，防止返黑。

4. 去胶：使用专用去胶液去除光刻胶，完成图形化。

关键工艺要点（现场必控）

• 浓度调控：CAN 浓度每提升 1 wt%，蚀刻速率约提升 5–8%，需根据膜厚调整。

• 温度敏感：温度每升高 1℃，速率提升约 10–15%，必须配备恒温槽严控温差。

• 体系禁忌：严禁混入盐酸、NaCl 等含氯物质，避免腐蚀基底及产生有毒氯气；禁止接触有机物 / 还原剂，防止瞬间放热失效。

• 设备适配：推荐使用 PP、PE、PTFE 材质的蚀刻槽及喷淋系统，避免材质腐蚀。

安全与储存

• 储存条件：室温密封保存，远离强碱、还原剂、易燃物，保质期 1 年。

• 操作规范：必须在通风橱内进行，佩戴耐酸手套、护目镜、防护服，避免皮肤 / 眼部接触。

• 废液处理：含铈 / 铬废液需按危废标准收集，采用中和沉淀法处理后达标排放，严禁直排。