基础材质以高纯金属铬为靶材，通过磁控溅射、真空镀膜工艺，在石英玻璃、光学基板表面沉积形成致密铬系薄膜，是光学掩膜、光刻制版、精密遮光元件核心材料。
关键特性
光学：紫外、可见光全波段高遮光率，不透光、遮蔽性强；
性能：膜层均匀致密、附着力强、耐酸碱、耐老化；
工艺适配：可湿法化学刻蚀、精细图形化加工，尺寸精度高。
适用场景光罩掩膜版、光学仪器遮光层、屏幕阻隔镀层、精密元器件避光镀膜。
遮光铬膜为镀膜原材料，硝酸铈铵为后段蚀刻加工耗材；光学掩膜、遮光镀层生产流程：真空镀铬（形成遮光铬膜）→ 光刻制版 → 硝酸铈铵蚀刻液定点腐蚀铬层 → 成型精密遮光图形。
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