遮光铬膜是沉积在透明基板（多为石英玻璃）上的金属铬薄膜，核心作用是完全阻挡光线，是制造半导体、LCD、PCB 用光掩膜版（光罩）的关键功能层。

1. 基本特性

• 成分：纯金属铬（Cr）或铬 / 氧化铬复合层。

• 外观：高致密度、低表面粗糙度的金属灰薄膜。

• 厚度：标准约 80~120 nm，光学密度（OD）> 3.0。

• 核心性能：

• 遮光性：对紫外 / 深紫外光（365/248/193 nm）近乎完全不透明。

• 稳定性：耐腐蚀、耐高低温、低内应力。

• 加工性：可精细刻蚀，形成纳米级图形。

2. 制备与应用

• 制备：PVD 磁控溅射，在超平石英基板上沉积。

• 核心用途：

• 半导体光掩膜版：作为不透光图形层，将电路图案转移至晶圆。

• LCD/PCB 掩膜版：高精度遮光图形模板。

• 优势：

• 图形精度高、边缘锐利。

• 化学 / 机械稳定性强。

• 刻蚀工艺成熟。

基本性质

• 外观：橙红色单斜晶体。

• 溶解性：极易溶于水（25℃：~1.4 g/mL），溶于醇，不溶于浓硝酸。

• 氧化性：强氧化剂（E°≈1.61 V），酸性下更强。

• 稳定性：易潮解，需密封干燥保存。