• 化学式：(NH₄)₂Ce(NO₃)₆

• 外观：橙红色晶体，易溶于水

• 核心特性：强氧化性（Ce⁴⁺），酸性条件下氧化性极强

• CAS 号：16774-21-3

为何是玻璃铬层蚀刻 “专用”？

玻璃基板（如 LCD/OLED 光罩、光学镜片）常镀金属铬膜作遮光 / 导电层。硝酸铈铵的不可替代性在于：

1. 高选择性：只氧化铬（Cr → Cr³⁺/Cr⁶⁺），生成可溶性盐被洗掉

2. 不伤基材：对玻璃、SiO₂、光刻胶几乎无腐蚀，保证图形精度

3. 速率可控：室温（25–35℃）下速率稳定（50–150 nm/min）

4. 边缘垂直：低侧蚀，线条边缘陡直，适合微米 / 纳米级精密加工

三、标准蚀刻液配方（工业通用）

• 硝酸铈铵 (CAN)：10–20 wt%（主氧化剂）

• 高氯酸 (HClO₄)：1–3 wt%（稳定速率、防发黑）

• 去离子水：余量

• 工艺条件：25–35℃，蚀刻 15–60 秒（视膜厚）

四、蚀刻机理（简明版）

Ce4++Cr→Ce3++Cr3+/Cr6+

• Ce⁴⁺（橙色）氧化金属铬

• 铬变成可溶性离子溶于水

• Ce⁴⁺被还原为 Ce³⁺（溶液变黄）

五、主要应用场景

• 半导体光罩 (Photomask)：玻璃基板铬膜图形化

• LCD/OLED 面板：阵列 / 彩膜制程铬蚀刻

• 光学玻璃：精密遮光层、导电线路加工

• 平板显示 / 触控屏：金属网格、引线蚀刻

六、材料等级要求

• 电子级：≥99.99% (4N)，低金属杂质（Cu、Fe、Ni<1ppm）

• 纯度不足 → 蚀刻不均、针孔、线路短路

七、安全与储存

• 强腐蚀 / 氧化剂：远离还原剂、有机物

• 操作：通风橱、耐酸手套、护目镜

• 储存：密封、阴凉干燥、防潮

八、优势总结

• 精准：图形保真度高、边缘垂直

• 高效：室温快速蚀刻、水洗即净

• 稳定：工艺窗口宽、批次一致性好

• 专用：对铬选择性远优于盐酸 / 硝酸等通用酸