氟化钇（YF₃）是中红外低折射率、高稳定、低吸收的核心光学镀膜材料，核心优势是宽透过、低应力、高激光损伤阈值、耐环境，是红外与激光光学系统的关键低折射率膜层材料。

• 透过范围：200 nm–12 μm（紫外–中红外），覆盖可见光、近红外、中红外（3–5 μm、8–12 μm）。

• 折射率：可见光约 1.51，10 μm 约 1.37，属低折射率材料。

• 成膜优势：低张应力，可镀 **>2 μm** 厚膜；致密、低吸水、耐湿热（50℃/95% RH 24h 稳定）。

• 激光性能：高激光损伤阈值、低吸收，适配高功率激光系统。

氟化钇是一种化学物质，化学式为YF3，常温下呈灰白色粉末或结晶状态。其分子量为145.901109，熔点为1387℃，密度为4.01 g/mL at 25°C(lit.)，沸点为2227℃。该物质的CAS登录号为13709-49-4，EINECS号为237-257-5，