极高选择性对石英 / 玻璃几乎不腐蚀，对 Cr 蚀刻极快，选择比 >100:1
蚀刻边缘陡直、侧蚀极小满足 7nm/5nm 先进制程掩膜精度要求
表面粗糙度极低Ra < 0.5 nm，无针孔、无黑边缺陷
高纯无金属污染必须使用 4N–5N 级 CAN，符合半导体级纯度
与光刻胶兼容性好不破坏光刻胶图形，适合高精度图形转移
硝酸铈铵（CAN）是光刻掩膜版制造中铬遮光层湿法蚀刻的核心材料，凭借高蚀刻选择性、低侧蚀、高表面质量、高纯低污染等优势，成为二元掩膜、相移掩膜及先进制程光罩制造的标准蚀刻剂
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