硝酸铈铵（CAN, (NH₄)₂Ce (NO₃)₆） 是微电子与显示产业中 铬（Cr）及氧化铬（CrOₓ）薄膜 的标准湿法蚀刻剂，核心用于 光刻掩膜版、LCD/TFT 阵列、OLED 电极、微机电系统（MEMS） 的图形化加工
高纯度（4N–5N）：无金属杂质，不污染面板 / 芯片
水溶性好、易配制：均匀透明、无沉淀
速率可控、重复性好：适合大批量生产
对光刻胶友好：兼容正胶 / 负胶（如 KLT、SU-8）
废液易处理：Ce³⁺可回收再生、Cr⁶⁺还原达标
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