集成电路蚀刻：硝酸铈铵是集成电路制造中铬金属蚀刻液的关键成分。它具有较强的氧化性，能够与铬发生氧化还原反应，从而实现对铬膜的蚀刻，在集成电路的光刻工艺中，用于精确控制铬膜的图形，以形成所需的电路结构。

薄膜晶体管蚀刻：可作为薄膜晶体管背光源的蚀刻剂，用于蚀刻薄膜晶体管中的金属层或其他功能层，帮助制备高性能的薄膜晶体管，进而提高液晶显示器等显示器件的性能和质量。

高端抛光材料：硝酸铈铵可用于制备集成电路的高端抛光材料。在半导体制造过程中，抛光是实现芯片表面平坦化的重要工艺步骤，硝酸铈铵参与制备的抛光材料能够有效地对芯片表面进行抛光处理，提高芯片的平整度和表面质量，有助于提升芯片的性能和可靠性。

光学玻璃制备：硝酸铈铵具有较高的折射率和透明度，可用于制备高折射率的光学玻璃，广泛应用于望远镜、显微镜、摄影镜头等光学仪器中，能够提高光学仪器的成像质量和分辨率。