氟化铈在高端结构陶瓷中作为高效低温烧结助剂与晶界改性剂使用，并非陶瓷主相，添加量仅1%~5%（质量比），核心依托低熔点烧结活性、稀土离子晶界强化效应、优异的化学稳定性三大优势，解决传统结构陶瓷（氧化铝、氧化锆、氮化硅 / 碳化硅等）烧结温度高、致密度低、力学性能不均、极端环境耐腐 / 耐磨性不足等痛点，实现陶瓷 “降烧结成本 + 提力学性能 + 强环境适应性” 的三重优化，仅适配航空航天、半导体、高端装备、海洋工程等领域的高性能结构陶瓷制备。

• 氟化铈添加方案：5N 级高纯 CeF₃超细粉（D50=1~3μm），添加量1%~3%，湿法球磨混合（保证与 ZrO₂粉体均匀分散）

• 核心工艺要求：真空烧结，温度1400~1500℃（常规烧结 1600℃以上），保温 1~2h；烧结后可进行表面抛光处理

• 性能核心提升：致密度≥99.5%，抗弯强度≥1200MPa（常规≤1000MPa），断裂韧性≥9MPa・m¹/²，耐磨损性能提升 30%