射率、超宽透光波段、优异的光学与环境稳定性、与玻璃基底高附着力的特性，适配紫外 - 可见光 - 中红外（0.2~15μm） 全波段玻璃基片的抗反射涂层制备，既可以做单层简易增透涂层，也可与高折射率材料搭配制备宽波段多层增透涂层，广泛用于民用光学、工业检测、军工航天的各类光学玻璃器件，解决传统玻璃表面高反射（自然光下反射率≈4%/ 面）导致的光损耗、成像模糊、杂光干扰等痛点，是氟化镁（MgF₂）的核心互补材料，在中红外波段玻璃抗反射涂层中具备不可替代优势。

氟化铈（主成分为三氟化铈 CeF₃）是稀土氟化物中经典的高端软质研磨抛光材料，核心依托低硬度、粒度均匀、化学稳定性强、研磨无划伤、抛光后表面光洁度极高的特性，完美匹配精密制造 “无损伤、超光滑、高精度” 的加工要求，主打光学元件、半导体 / 电子器件、特种晶体 / 陶瓷的精磨与超精密抛光工序，是替代传统氧化铈、氧化铝的高端研磨辅料，广泛用于光学、半导体、光电显示、航天军工等高端制造领域，也是精密加工中实现 “镜面级超光滑表面” 的关键材料。