抛光效果优异，提升电子元件核心性能用于半导体芯片、记忆硬盘、显示器基板抛光时，可实现超精密镜面抛光，有效提升基板的可见光透光率（脱色后提升 5%-8%）与表面平整度，减少光散射、信号传输损耗，直接优化显示器显示效果、硬盘数据读写效率等核心性能，适配高端电子器件的性能要求。

核心高效刻蚀应用场景

• PCB 电路板：高密度精细线路铜层刻蚀，适配柔性 PCB、高频 PCB 等高端电路板加工；

• LCD/LED 液晶玻璃：玻璃基板铜电极微纳刻蚀，提升显示面板透光率与信号传输效率；

• 半导体器件：晶圆铜布线、微纳结构铜层刻蚀，匹配半导体芯片小型化加工需求；

• 薄膜晶体管（TFT）：背光源、驱动电路铜靶材用刻蚀，适配平板显示、OLED 器件制造。