蚀刻精度极高，适配精细线路加工

侧蚀量极低：Ce⁴⁺的氧化反应具有高度选择性，蚀刻过程中对线路侧壁的侵蚀（侧蚀）比氯化铁蚀刻液减少 60% 以上，可实现线宽 / 线距≤50μm 的精细线路加工（如 HDI 板、IC 载板的 20μm 级线路），线路边缘平整度提升 30%，偏差≤2μm，满足高密度、微型化 PCB 的制造需求。

蚀刻均匀性好：蚀刻液体系稳定，反应速率可控，避免出现局部过蚀刻或蚀刻不足，成品合格率提升至 98% 以上，尤其适合铬铜复合金属层的精准蚀刻（仅蚀刻铬层，不损伤铜层和基板）

硝酸铈铵英文名称:Ammonium cerium(IV) nitrate CAS:16774-21-3