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小苏打沉淀制备稀土抛光粉的工艺要点
2018月03月27日 发布 分类:粉体加工技术 点击量:584
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随着国家环保对化工行业各区域氨氮排放标准的严控,碳酸氢铵沉淀制备稀土抛光粉的工艺受到了极大的限制,使用小苏打与纯碱,草酸等原料的沉淀工艺应运而生。目前国内小苏打沉淀制备稀土抛光粉工艺应用相当成熟,通过对“红粉”与“白粉”的不断研发改进,在行业中取得了重大突破,质量获得了市场认可,目前广泛应用于手机玻璃屏,液晶玻璃屏,ITO导电玻璃,硬质玻璃等特种玻璃用量少售价每公斤60元至200元之间,经某单位测试红粉在光学玻璃上切削率超过日本昭和稀土抛光粉。

 

这是小苏打?没错,就跟你蒸包子的小苏打一样成分

 

车间基本配置

贮液罐,高位桶,溶解锅,反应锅,过滤箱,空压机,物料提升台,球磨机,板框压滤机,烘箱或喷雾干燥机,窑炉,过筛机,分级机,混料机,包装机,配料分析,成品分析。

 

二、工艺

1、稀土抛光粉中起决定作用的元素是铈,相比于其他沉淀工艺在铈含量相同的情况下,小苏打沉淀制备铈基抛光粉对稀土杂质和非稀土杂质含量,灼烧时间温度,BET比表面积,松装密度,氟的含量,粉体的粒度以及粉体晶形面貌,粉体的硬度,粉体磨削率和耐磨度,抛光粉的流动性,悬浮性提出了更高的要求。碳酸稀土的不同加工方式对后序工艺有很大影响,稳定性高的原料是做好抛光粉的基础,因此只有综合抛光粉的全部理化指标才能正确评价其抛磨能力。

 

2、小苏打是比碳酸氢铵高几倍价格的沉淀剂,沉淀过程中粒度过细使得碳酸稀土在过滤中不容易真空抽干,粒度过大又导致氯根包裹在里面洗不干净,所以需加入一定量的添加剂。控制沉淀非稀土杂质,可以减少后续高温焙烧的中的烧结现象,对应用过程中消除玻璃划痕会有很好的效果。

 

3、为了达到理想的沉淀效果,每次沉淀时在反应锅中需加入一定量的晶种,碳酸稀土的正沉淀(小苏打溶液加入到氯化稀土溶液中),反沉淀(氯化稀土加入到小苏打溶液中),共沉淀(氯化稀土和小苏打溶液同时加入),陈化温度和陈化时间,氯化稀土和小苏打的起始浓度,不同沉淀温度的的控制,以及放料速度,起始氯化稀土料液的PH值,都对粉体的晶形团聚性和粉体的一次粒径有一定的影响。小苏打沉淀制备铈基稀土抛光粉的氟化,有分前氟化和后氟化,添加剂有氢氟酸硅氟酸氟化氨,氟化氢铵等,粉体晶体形状与其前驱体碳酸稀土有遗传性

 

4、前驱体在高温灼烧过程中需要控制窑温的精度,常用的窑炉有推板窑和辊道窑,回转窑(高温焙烧900度至1050度)等。气流分级过程中需要避免大颗粒的存在,气流分级设备有辽宁沈飞,江苏密友粉体,四川绵阳流能等。

 

5、采用小苏打沉淀剂工艺废气主要是合成过程中的水蒸气和焙烧过程中的二氧化碳,均为无害气体,工艺废水含有NaCl和少量Na2CO3,可沉清后直接排放,整个工艺过程中不产生废渣。

 

6、抛光过程中玻璃容易产生划痕,调节抛光压力和转速,根据各种玻璃的材质生产不同铈含量的稀土抛光粉,找到适合小苏打制备抛光原材料的分散剂。

 

备注文章中的“白粉”指的是成分氧化镧和氧化铈的稀土抛光粉,红粉则在白粉的基础上含有约2-6%氧化镨。

 

稀土贴


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